Siliciumcarbide focusring

Het chemische dampdepositie (CVD) productiesysteem produceert siliciumcarbide via chemische dampdepositie dat superieur is aan elk huidig siliciumcarbide. De hoge-productiviteitsvoordelen van hoogwaardige- SiC omvatten het verlengen van de levensduur van productieapparatuur, het verminderen van stilstand, het elimineren van vervuiling en het verhogen van de opbrengst...

Aanvraag sturen

Praat nu

Keramische depositieringen van aluminiumoxide dienen als kritische verbruiksonderdelen in de reactiekamers van chemische dampdepositie (CVD) en fysische dampdepositie (PVD)-apparatuur-in de productie van halfgeleiderchips. Hun materiaalkeuze en toepassingseisen zijn uitzonderlijk streng. Meestal geïnstalleerd rond waferdragers (elektrostatische klauwplaten) maken ze deel uit van de procesreactieruimte. In de veeleisende productieomgeving van halfgeleiders is de primaire rol van de depositiering het beschermen van dure kerncomponenten (zoals elektrostatische klauwplaten) tegen verontreiniging en afzetting van procesbijproducten, het waarborgen van procesuniformiteit en het handhaven van de reinheid en stabiliteit van de kamer. De prestaties ervan hebben een directe invloed op de uptime van apparatuur, onderhoudskosten en de uiteindelijke chipopbrengst. Dergelijke componenten vallen onder de categorie van precisie-aluminiumoxide-keramische bewerking, waarbij strenge eisen worden gesteld aan de hoge zuiverheid en superieure prestaties van het aluminiumoxide-keramische materiaal.

Silicon Carbide Focus Ring

Prestatieparameter keramiek

product-1314-924

Belangrijkste eigenschappen

Uitzonderlijke corrosiebestendigheid: Bestand tegen erosie door verschillende corrosieve, zeer reactieve plasmagassen die worden gebruikt in CVD/PVD-processen, waardoor een langere levensduur wordt gegarandeerd.
Superieure weerstand tegen hoge- temperaturen: Behoudt structurele stabiliteit en prestaties bij procestemperaturen die honderden of zelfs duizenden graden Celsius bereiken zonder vervorming of smelten, wat de eigenschappen van aluminiumoxide-keramiek op hoge- temperatuur aantoont.
Hoge zuiverheid en lage verontreiniging: Keramiek van aluminiumoxide met hoge{0}} zuiverheid (bijvoorbeeld 99,9% of hoger) minimaliseert de vrijgave van verontreinigingen zoals metaalionen uit het materiaal zelf in de proceskamer onder hoge- temperatuur- en plasmaomstandigheden, waardoor waferverontreiniging wordt voorkomen.
Uitstekende mechanische sterkte en hardheid: Beschikt over voldoende stijfheid om de maatvastheid te behouden en tegelijkertijd mechanische spanningen en installatiekrachten te weerstaan. Robuuste mechanische eigenschappen vormen de basis voor alle vormen-of het nu gaat om keramische platen van aluminiumoxide, keramische staven van aluminiumoxide (aluminiumoxide staven) of aluminiumoxide buizen.
Superieure isolatie: Als isolatiemateriaal interfereert aluminiumoxide-keramiek niet met de hechtingsfunctie van de elektrostatische spankop voor wafers, waardoor procesveiligheid en stabiliteit worden gegarandeerd.
Matige thermische geleidbaarheid: helpt het temperatuurveld in de kamer te homogeniseren en oververhitting te voorkomen.
Hoge precisie en bewerkbaarheid: Door middel van geavanceerde keramische vormtechnieken en precisiebewerking kunnen complexe vormen met uitzonderlijke maatnauwkeurigheid en oppervlakteafwerking worden bereikt.

Producttoepassing

Grondstoffen: fijn aluminiumoxidepoeder is vereist, vooral voor hoog-zuiver aluminiumoxide-keramiek. Aluminiumoxide (Al2O3) is de basisstof.
Vormen en sinteren: hierbij zijn fabrikanten van aluminiumoxide-keramiek betrokken die technieken gebruiken om aluminiumoxide-keramische plano's te produceren.
Precisiebewerking: uitgevoerd door specialisten op het gebied van de bewerking van aluminiumoxide-keramiek of leveranciers van onderdelen, waarbij plano's worden omgezet in definitieve componenten zoals keramische platen van aluminiumoxide, keramische staven van aluminiumoxide of complexe structurele onderdelen van aluminiumoxide-keramiek.
Andere vormen en toepassingen: Naast afzettingsringen heeft aluminiumoxide-keramiek diverse halfgeleidertoepassingen, zoals keramische substraten van aluminiumoxide (al2o3-substraat) voor verpakkingen, keramische membranen van aluminiumoxide en aluminiumoxidevezelbuizen voor isolatie.