Fotovoltaïsche apparatuur Keramische schijf

Keramische wafel of substraat in de fotovoltaïsche apparatuur van CeramicsTimes verwijst naar de belangrijkste keramische componenten die worden gebruikt in het fotovoltaïsche productieproces, meestal als draag-dragende, isolerende, temperatuur-bestendige of functionele ondersteunende materialen...

Aanvraag sturen

Praat nu

Keramische wafer of substraat in de fotovoltaïsche apparatuur van CeramicsTimes verwijst naar de belangrijkste keramische componenten die worden gebruikt in het fotovoltaïsche productieproces, meestal als draag-dragende, isolerende, temperatuur-bestendige of functionele ondersteuningsmaterialen.

De keramische billet voor PV-apparatuur van CeramicsTimes is een belangrijk materiaal om een efficiënte en stabiele productie te garanderen, en de prestaties ervan hebben rechtstreeks invloed op de levensduur van PV-apparatuur en de celefficiëntie. Met de ontwikkeling van PV-technologie naar grote afmetingen en hoge efficiëntie zal keramisch substraat evolueren naar hogere precisie en multifunctionele integratie.

Kernfunctie van keramische discretes in fotovoltaïsche apparaten

Hoge-temperatuurbelasting-lager: Stabiele ondersteuning bij wafeldiffusie, sinteren en andere processen (zoals keramische boten in PECVD-apparatuur).
Elektrische isolatie: voorkomen van stroomlekken in fotovoltaïsche apparatuur (bijv. keramische tafelbladen in zeefdrukmachines).
Thermisch beheer: Efficiënte thermische geleidbaarheid of thermische isolatie om uniformiteit van de procestemperatuur te garanderen (bijv. verwarmingsplaten in ALD-apparatuur).
Chemische inertheid: weerstand tegen corrosie door zure/alkali-reinigingsoplossingen (bijv. keramische dragers in pluistanks).

Productnaam	Fotovoltaïsche apparatuur keramische schijf
Materiaal	Materiaal zirkonia
Kleur en maat	Pas aan
Verpakking	Karton/pallet (volgens klantvereiste)
Levertijd	7-30 dagen
Artikelen ontwerp	Volgens de tekening of monsters van de klant
Functies	Goede kwaliteit, lage prijs, meerdere fabrieken, leveren bij u op basis van de fabriek die het dichtst bij uw locatie ligt

Primaire toepassingen

‌Waferhantering‌: Gebruikt als mandtanden of zuignappen om siliciumwafels vast te zetten tijdens diffusie, etsen en andere processen, waardoor krassen worden voorkomen.
‌Apparatuurbescherming‌: Wordt gebruikt in robotarmen, lasersnijders en andere componenten voor hoge- temperatuurbestendigheid en chemische corrosiebestendigheid.
‌Isolerende ondersteuning‌: Isoleert elektrische stromen in omvormers en aansluitdozen, waardoor de systeemveiligheid wordt verbeterd.

Prestatieparameter keramiek

Nummer	Prestatie	Eenheid
			95Aluminiumoxide	97Aluminiumoxide	99Aluminiumoxide	995Aluminiumoxide	997Aluminiumoxide	998Aluminiumoxide	Zirkonia gehard aluminiumoxide	Aluminiumoxide gehard zirkonia
									ZTA	ATZ
1	fijnheid		95%	97%	99%	995%	997%	998%
2	Dikte	g/cm3	3.7	3.8-3.85	3.85	3.9	3.92	3.98	4.0-4.3	Groter dan of gelijk aan 5,25
3	Buigsterkte	MPa	304	320	340	370	400	550-600	700	Groter dan of gelijk aan 650
4	Breuktaaiheid	MPa·m1/2	4	4.5	5.6-6	5.6-6	5.6-6	5.6-6	7	Groter dan of gelijk aan 7
5	Diëlektrische constante	εr(20 graden, 1MHz)	9.0	9.2	9.5	9.7	9.8	9.9	9.2	9.2
6	Hardheid	GPa	12.8-15	15	15-16	15-16	16.3	16.3-18	13	14.5
7	Hardheid	HRC	73-79	79	79-80	79-80	81	81-83	76	78
8	Volumeweerstand	Ω · cm (20 graden)	10 ¹³	10 ¹⁴	10 ¹⁴	10 ¹⁴	10 ¹⁴	10 ¹⁴	10 ¹⁴	10 ¹⁴
9	Elasticiteitsmodulus	GPa	320	330	380	380	380	400	300	280
10	Coëfficiënt van thermische uitzetting	×10-6/k	7.6	7.6	7.6	7.6	5.4-8.4	6.4-8.9	8.3	8.5
11	Druksterkte	MPa	1910	2100	2210	2300	2300	2300	2400	2450
12	Schaafwonden	g/cm2	0.2	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1
12	Thermische geleidbaarheid	W/m×k(20 graden)	20	24-27	34	35	35	38.9	27
13	Poisson-ratio	/	0.22	0.22	0.22	0.22	0.22	0.22	0.26	0.2
14	Isolatie sterkte	kv/mm	27	28	28	28	30	30	30	30
15	Temperatuur	rang	1520-1600	1650	1520	1650	1700	1700	1650	2000